Как известно, наиболее передовым технологическим процессом, освоенным в серийном производстве логических микросхем, является 14-нанометровый техпроцесс, разработанный специалистами компании Intel. Компания предлагает выпуск продукции с использованием этого техпроцесса сторонним заказчикам. Чтобы проектировать и тестировать свои разработки в расчете на определенный техпроцесс, заказчикам необходим эталонный процесс определения характеристик, позволяющий получить соответствующие логические библиотеки. Разработкой такого инструментария, в частности, занимается компания Cadence, специализирующаяся на решениях для проектирования интегральных схем.
Вчера компании Cadence Design Systems и Intel объявили совместной разработке эталонного процесса для определения характеристик 14-нанометровых библиотек для клиентов Intel Custom Foundry в рамках продолжения сотрудничества по созданию цифровых и адаптированных аналоговых процессов для 14-нанометровой платформы Intel. В соответствующем пресс-релизе сказано, что эталонный процесс для определения характеристики библиотек построен на основе решений Cadence Virtuoso Liberate Characterization и Spectre Circuit Simulator. Он позволяет получить точные 14-нанометровые логические библиотеки.
В частности, эталонный процесс предусматривает возможность создания 14-нанометровых библиотек Liberty, таблиц AOCV, представлений оценки и надежности. Он был разработан с использованием инструментария Virtuoso Liberate, Virtuoso Liberate LV, Virtuoso Variety и Spectre Circuit Simulator, включающего улучшенные модели логических схем с учетом задержек (ECSM, CCS), улучшенные шумовые модели (ECSMN, CCSN) и улучшенные мощностные модели (ECSMP, CCSP). Как утверждается, эталонный процесс позволит заказчикам Intel Custom Foundry изменять характеристики логических библиотек в соответствии со своими требованиями в отношении производственного процесса, значений напряжения или температуры или определять характеристики своих ячеек, используя аналогичную методику.
Остается добавить, что Intel Custom Foundry предлагает платформу для проектирования на базе 14-нанометрового техпроцесса второго поколения с использованием транзисторов Tri-Gate. Эта технология предназначена для однокристальных систем, ориентированных на облачные инфраструктуры и мобильные области применения, поскольку позволяет снизить напряжение питания и токи утечки.
Источник: Intel
