Сейчас в Сан-Франциско проходит мероприятие Intel Developers Forum (IDF) 2014, на котором ведущий производитель x86-совместимых процессоров рассказывает о своих новинках, достижениях и планах. Но кое-что о планах в области процессов полупроводникового производства стало известно еще до открытия IDF. Как утверждает источник, компания Intel подтвердила, что не будет использовать сканеры, работающие в жестком ультрафиолетовом диапазоне (Extreme Ultra Violet, EUV) для выпуска продукции по нормам 10 нм. Это решение было предсказуемым, хотя и неочевидным. Большинство наблюдателей, полагавших, что Intel не будет использовать EUV на этапе 10 нм, было также уверено, что компания не столкнется с технологическими сложностями при освоении норм 14 нм. Однако, судя по задержкам с выпуском процессоров Broadwell, эта уверенность была не вполне обоснованной. Впрочем, перенос сроков выпуска Broadwell не обязательно связан с технологическими аспектами, и вполне может быть намеренным.
Процессоры, выпускаемые по нормам 10 нм, Intel планирует иметь в 2016 году. Соответствующий техпроцесс получил обозначение P1274. При условии использования EUV переход на более тонкие нормы, на первый взгляд, мог бы быть проще. Тем не менее, это не так. В Intel объясняют отказ от перехода на сканеры EUV значительными накладными расходами. Дело в том, что сканер в чистой комнате можно назвать верхушкой айсберга. Для обеспечения его работы используется внушительная инфраструктура, так что переход на сканеры EUV повлек бы за собой полную перестройку производства. С учетом этого, эволюционное усложнение существующей технологии выглядит экономически более привлекательно.
Источник: WCCFtech
