Отсутствие в последнее время новостей о том, как отрасль осваивает или хотя бы собирается осваивать полупроводниковое производство с использованием пластин диаметром 450 мм, могло навести на мысль, что движение в это направлении прекратилось. Однако, это не так.
На сайте компании Gigaphoton, являющейся основным производителем источников света для литографии, появилось сообщение о том, что флагманская модель мощного эксимерного лазера GT64A для иммерсионной литографии, рабочим телом которого является смесь аргона и фтора (ArF), будет использоваться участниками консорциума Global 450 Consortium (G450C) в качестве источника света для первого сканера, рассчитанного на пластины размером 450 мм. Мощность лазера — 120 Вт.
Лазер будет установлен в Олбани, штат Нью-Йорк, на площадке университета штата (SUNY), точнее говоря, входящего в его состав колледжа нанотехнологий (CNSE). Этот колледж является штаб квартирой консорциума G450C, в который входят компании Intel, IBM, Globalfoundries, TSMC и Samsung.
Лазер будет использоваться для тестирования и разработки техпроцесса, рассчитанного на массовое производство микросхем с использованием пластин диаметром 450 мм. Доставка лазера в CNSE намечена на апрель 2015 года.
Напомним, летом прошлого года компания Nikon получила заказ на 450-миллиметровый иммерсионный сканер для G450C.
Источник: Gigaphoton
