Голландский производитель полупроводникового оборудования ASML заявил о поставке первой из своих новых систем литографии в экстремальном ультрафиолете (High NA EUV) корпорации Intel.
Ожидается, что новые машины, каждая из которых стоит более 300 миллионов долларов, помогут производителям компьютерных чипов производить меньшие по размеру и более быстрые чипы. В частности, данные станки позволят производить чипы по технологии 2 нм.
ASML опубликовала в социальной сети X изображение одного сегмента машины, отправляющейся из своей штаб-квартиры в Вельдховене, Нидерланды, в защитном футляре с красной лентой, обвязанной вокруг него.
«Мы рады и гордимся тем, что поставляем нашу первую систему High NA EUV компании Intel», — говорится в заявлении ASML.
ASML доминирует на рынке систем литографии — машин, которые используют лазеры для создания чипов. Станки High NA EUV, которые в собранном виде будут больше грузовика, поставляются в 250 отдельных ящиках, включая 13 больших контейнеров. Ожидается, что они будут использоваться в коммерческом производстве чипов, начиная с 2026 или 2027 года.
Intel заказала первую из пилотных машин High NA в 2022 году. Среди других производителей микросхем, заказавших машины, — TSMC, Samsung, SK Hynix и Micron/
Плановая производственная мощность ASML на следующий год составляет всего 10 единиц, а Intel уже заказала 6 из них. Однако в ближайшие несколько лет ASML планирует увеличить мощность производства этого оборудования до 20 единиц в год.
