Компания Samsung объявляет о производстве и отгрузке 1 миллиона модулей первой на рынке памяти (D1x) DDR4 DRAM, произведенных с использованием литографии в глубоком ультрафиолете (технология EUV).
Теперь компания создает функциональные узлы с использованием EUV, чтобы изготавливать модули, предназначенные для использования в премиальных ПК, мобильных устройствах, корпоративных серверах и центрах обработки данных.
Samsung первой применила технологию EUV в производстве модулей оперативной памяти DDR4 DRAM. Литография в глубоком ультрафиолете сокращает количество повторяющихся шагов при создании нескольких шаблонов и повышает точность их формирования, производительность, снижает время и повышает выход качественной продукции.
Технология EUV будет использовать в будущих DRAM Samsung, начиная с четвертого поколения 10-нм класса (D1a) или 14-нм класса DRAM. Компания намерена начать серийное производство DDR5 и LPDDR5 на базе D1a в следующем году.
Компания планирует укреплять сотрудничество с ведущими ИТ-клиентами и поставщиками, чтобы ускорить переход рынка к памяти DDR5 и LPDDR5.
