Нидерландская компания ASML ― глобальный лидер по выпуску производственного литографического оборудования для изготовления полупроводников ― сообщила о рекордном по сумме заявок квартале. Не в последнюю очередь в этом проявился чрезвычайно высокий спрос на сканеры диапазона EUV (13,5 нм). Официально в производстве чипов данное оборудование используют только две компании ― Samsung и TSMC и обе для выпуска 7-нм продукции. Но всего в мире уже установлено около 60 EUV-сканеров на опытных линиях у других компаний и в ряде исследовательских центров.
EUV-сканер компании ASML, модель NXE:3350B
Выручка ASML в третьем квартале календарного 2019 года достигла 2,987 млрд евро (примерно $3,3 млрд). Чистая квартальная прибыль компании составила 627 млн евро или в районе $692,7 млн. В компании утверждают, что выручка, чистая прибыль и объём заявок в отчётном квартале побили все ожидания аналитиков. При этом в ASML отмечают спрос на сканеры для производства «логики», тогда как производители памяти притормозили спрос на оборудование.
В течение квартала было поставлено 45 сканеров диапазона DUV (193 нм) и 7 сканеров EUV (плюс 5 уже бывших в использовании сканеров). Всего за девять месяцев 2019 года ASML отгрузила 136 сканеров, из которых 18 были EUV. В четвёртом квартале планируется отгрузить ещё 8 сканеров EUV. Тем самым за год ASML поставит клиентам 30 установок с проекцией в крайнем (сверхжёстком) ультрафиолетовом диапазоне. Параллельно клиенты компании разместили заявки на производство ещё 23 новых сканеров EUV. Всего портфель заявок ASML в третьем квартале оценён в 5,111 млрд евро. Никогда раньше нидерландский производитель не получал такого объёма заказов за один квартал.
Важно отметить, что руководство ASML подтверждает интерес производителей памяти к EUV-сканерам. Данное оборудование будет использоваться не только для выпуска логики, но также для производства чипов DRAM и NAND. Собственно, большое число заявок на изготовление EUV-сканеров косвенно подтверждают этот интерес. Переход на EUV-проекцию сделает производство дешевле за счёт использования меньшего числа фотомасок и, как следствие, благодаря сокращению производственных циклов.
