Электронной литографией нынче не удивишь никого, ей пророчат весьма успешное будущее в микроэлектронике. Даже РосНано планирует к закупке электронно-лучевую литографию Mapper. А как на счёт материалов – что станет основой фоторезиста будущего?
Ионно-лучевая литография, в обобщённом смысле этого слова, рано или поздно должна прийти на замену традиционной фотолитографии, так как обладает несравнимым разрешением и точностью создания паттернов за счёт использования частиц (ионов или электронов) с очень короткой длиной волны (меньше 1 Ангстрема или 0.1 нм). К тому же, это метод прямого создания паттернов и схем, не требующий разработки дорогостоящих масок (цена которых может доходить до сотен тысяч долларов за штуку), как в случае с фотолитографией.
Например, на представленной схеме фотолитографического процесса, в случае ионно-лучевой литографии мы смело можем исключить маску на стадии номер 3:
Однако в мире капитализма всё решают деньги, в том числе стоимость оборудования и сырья – конечно же и фоторезиста, который расходуется в больших объёмах, так как самый обычный чип может содержать от десятка самых разнообразных слоёв. И фактически именно фоторезист отвечает за то, с какой точностью паттерн будет воспроизведён на подложке.
Итак, группа китайских учёных из Канады предложила способ использования крайне дешёвого полистирола в качестве фоторезиста в электронно-лучевой литографии, позволяя создавать 3D объекты до 1.5 микрон высотой при необычайно малой толщине (ниже сотни нанометров).
Обычно в электронной литографии используется полимер полидиметилсилоксан (PDMS), однако учёные нашли способ, как заменить его на более дешёвый полистирол (рыночная стоимость примерно в 2 раза ниже). При этом повышается чувствительность, а вместе с ней и производительность всего метода в целом, так как требуется меньше времени на создание одного «пикселя».
Суть предложенного метода заключается в том, что полистирол наносится на подложку за счёт термического испарения, а затем после воздействия электронного пучка экспонированную область можно легко растворить смесью ксилолов. В результате чего образуется полость, которая в последствие может быть заполнена различными материалами: алюминием (для создания контактов), диоксидом кремния (для создания волноводов или изолирующих плоскостей) и так далее.
Примеры паттернов, полученных на полистироле с помощью электронно-лучевой литографии
К тому же, при желании можно одновременно «рисовать» на изогнутых поверхностях и даже создавать волноводы на таких поверхностях:
С помощью электронного пучка можно печатать фактически на любой поверхности, создавая сложные паттерны
Таким образом, совокупность свойств: низкой себестоимости, малой дозы или короткого времени экспонирования, совмещённой с возможностью создавать паттерны на изогнутых поверхностях, – фактически делают полистирол востребованным на зарождающимся рынке электронной промышленной литографии.
Оригинальная статья в ACSNano (DOI: 10.1021/nn4064659)
Автор: Tiberius
