В России создан первый отечественный литограф с разрешением 350 нм. К 2026 году обещают установку с разрешением 130 нм

Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) объявил о завершении разработки и успешном прохождении государственной комиссии первого российского фотолитографа. Эта установка, способная создавать микросхемы с разрешением 350 нанометров, является ключевым элементом для развития отечественной микроэлектроники. 

^[1]

Новый литограф обладает рядом преимуществ по сравнению с предыдущими разработками. Площадь рабочего поля увеличена до 22х22 мм (с 3,2х3,2 мм), а максимальный диаметр обрабатываемых пластин — до 200 мм (с 150 мм). Впервые в российском литографе в качестве источника излучения используется не ртутная лампа, а более мощный и долговечный твердотельный лазер.

Разработка велась совместно с белорусской компанией «Планар» в рамках тендеров Минпромторга, выигранных ЗНТЦ в 2021 году. Сейчас центр адаптирует технологические процессы под нужды конечных потребителей и ведет переговоры о поставках первых установок для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств. Одним из потенциальных заказчиков называется компания «Микрон». ЗНТЦ также планирует завершить разработку литографа с разрешением 130 нм к 2026 году.

Источник ^[2]