Компания Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), являющаяся наиболее передовым и крупнейшим в Китае производителем полупроводниковой продукции, готовится перейти от 14-нм техпроцесса к техпроцессу, который она называет N+1. Выпуск продукции по новому техпроцессу в ограниченных масштабах должен начаться в четвертом квартале.
Недавно производитель достаточно подробно рассказал о N+1, уточнив, что новый техпроцесс уже привлек заказчиков, для которых с его использованием будут изготавливаться потребительские решения, включая процессоры приложений и микросхемы, отвечающие за подключение, для телевизоров, мобильных и носимых устройств.
Признавая, что это 14-нанометровый техпроцесс, в SMIC утверждают, что в некоторых аспектах он способен конкурировать с 7-нанометровыми техпроцессами Samsung и TSMC.
В частности, по сравнению с нынешним 14-нанометровым техпроцессом обеспечивается повышение производительности на 20 и снижение энергопотребления на 57%. Размеры логических элементов уменьшаются на 63%, а общая площадь SoC — на 55%. Эти показатели выводят N+1 на уровень 7-нанометровых техпроцессов конкурентов, исключая, разве что производительность. С другой стороны, это компенсируется меньшей стоимостью, в честности, за счет меньшего числа масок.
В техпроцессе N+1 и следующем за ним N+2 литография в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) не используется. Но со временем на EUV планируется перевести формирование некоторых слоев в N+2.
