Подтверждая неофициальную информацию, компания Samsung Electronics сегодня объявила о начале строительства линии про производству полупроводниковой продукции с использованием литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).
По мнению производителя, новая линия позволит ему «упрочить лидерство в технологических процессах с нормами, измеряемыми единицами нанометров».
Говоря более конкретно, в Samsung решили использовать EUV, начиная с 7-нанометрового техпроцесса, оптимизированного по критерию энергопотребления микросхем (Low Power Plus или LPP).
Ожидается, что строительство завершится во втором полугодии 2019 года, а в 2020 году начнется освоение производства. Первоначальные инвестиции в предприятие на период до 2020 года оцениваются в 6 млрд долларов. В зависимости от потребностей рынка эта сумма может быть увеличена.
