Метка «high-k metal gate»

Intel стала лауреатом премии IEEE Corporate Innovation Award этого года - 1
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) объявил, что следующим лауреатом его престижной премии Corporate Innovation Award станет компания Intel. Награда будет вручена за разработку и внедрение в массовое производство инновационных технологий high-k metal gate и tri-gate в процессорах Intel.
Corporate Innovation Award была учреждена IEEE в 1985 году. Она присуждается компаниям или организациям «за выдающиеся инновационные достижения» в сфере деятельности института IEEE. В разное время ее лауреатами становились Apple Computer за выпуск первого массового персонального компьютера, Jet Propulsion Laboratory за разработки в области беспилотных космических полетов, Toyota за изобретение гибридной трансмиссии и SanDisk как создатель флеш-памяти.
Под катом вы найдете краткую историю изобретений Intel, удостоившихся высокой награды.
Читать полностью »


https://ajax.googleapis.com/ajax/libs/jquery/3.4.1/jquery.min.js