По сообщению компании Carl Zeiss, она получила заказы от двух из четырех членов альянса SEMATECH EMI Partnership на системы дефектоскопического контроля AIMS EUV. Эти системы предназначены для работы с масками для литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (extreme ultraviolet lithography, EUVL).
Какие именно компании заказали оборудование, предназначенное для перспективных техпроцессов, неизвестно. Однако известно, что членами SEMATECH EMI Partnership являются компании GLOBALFOUNDRIES, Intel, Samsung Electronics и TSMC. Напомним такде, что в феврале прошлого года была отгружена первая в мире предсерийная установка для EUVL,Читать полностью »